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  • 20249-10
    半導體制冷臺適用于特殊場合,如科研實驗或特定工業過程

    半導體制冷臺是一種利用半導體材料的熱電效應實現制冷的設備,具有體積小、重量輕、無振動、無噪音等優點。它在許多領域得到了廣泛的應用,如實驗、生產、儲存、環保節能等。隨著半導體制冷技術的不斷發展和完善,相信未來將在更多領域發揮更大的作用。1.選購半導體制冷臺的指南-理解工作原理:了解半導體制冷片的基本工作原理,即當N型和P型半導體材料連結并接通直流電后,一端吸收熱量成為冷端,另一端釋放熱量成為熱端。-考慮用途需求:考慮您購買半導體制冷臺的主要用途,如是否用于家用、商業還是特定的工...

  • 20249-3
    一起了解下半導體制冷臺的主要組成部分

    半導體制冷臺是一種利用半導體材料的熱電效應實現制冷的設備。它主要由兩種不同類型的半導體材料組成,這兩種材料在電流的作用下會產生熱量吸收和釋放的現象,從而實現制冷效果。半導體制冷技術具有體積小、重量輕、無振動、無噪音等優點,因此在許多領域得到了廣泛的應用。半導體制冷臺的工作原理是基于熱電效應,主要包括塞貝克效應、佩爾蒂效應和湯姆森效應。塞貝克效應是指當兩種不同導體或半導體材料組成的回路在一個接頭處加熱,另一個接頭處冷卻時,回路中會產生電流;反之,如果回路中有電流通過,則一個接頭...

  • 20248-12
    小型等離子去膠機的操作注意事項

    小型等離子去膠機作為半導體制程和光電子工業中的重要設備,其優勢特點在于高效去膠、操作簡便、適用廣泛、環保安全等方面。它通過產生高能等離子體,對材料表面進行微觀層面的處理,實現快速、高效且環保的去膠效果。-短時間內去除膠水或粘合劑:能夠在相對較短的時間內對膠水或粘合劑進行高效去除,這大大提高了生產效率。-提高生產效率:通過高能等離子體反應,能夠快速、高效地去除膠層,從而大大縮短了處理時間。-易于上手:設計簡潔,操作方便,使得操作人員能夠快速上手,降低了使用門檻。-維護簡單:這類...

  • 20248-7
    小型等離子去膠機是現代微電子制造過程中不可少的設備之一

    小型等離子去膠機是現代微電子制造過程中不可少的設備之一,主要用于清除半導體晶片、液晶顯示器、電子器件等表面的光刻膠及其他有機聚合物殘留。1.基本原理-概述:主要利用氧氣或其他氣體在微波能量的作用下電離形成等離子體。這種等離子體富含高能活性粒子,這些粒子與光刻膠等有機物發生化學反應,將其轉化為易揮發的簡單無機化合物如水蒸氣和二氧化碳,從而實現去除目的。-反應過程:工作氣體(通常是氧氣)被激發成等離子態,這些等離子體中的活性粒子與固體表面(如半導體晶片)上的有機聚合物接觸,通過高...

  • 20247-10
    氣體液體配比器的基礎知識,一篇搞定

    氣體液體配比器在激光切割和焊接領域,氣體配比器用于提供特定比例的保護氣體,以保護工件免受氧化,并幫助去除切割過程中產生的雜質;在化學實驗中,液體配比器確保試劑按照準確的比例混合,這對于實驗結果的準確性和重現性至關重要;在連續生產過程如食品加工、化工生產等領域,用以保證原料和添加劑的準確配比,確保產品的一致性和質量穩定性。氣體液體配比器組成結構:-質量流量傳感器:它是配比器的核心組件之一,用于準確測量流經的氣體或液體的質量流量,保障配比精度。-熱式原件:在氣體配比中,熱式原件通...

  • 20247-3
    氣體液體配比器在工業生產和科研實驗中非常重要

    氣體液體配比器是用于將兩種或多種氣體/液體按一定比例混合的裝置,以達到特定濃度或性能的混合物。在工業生產和科研實驗中,準確的氣體或液體混合比例對于保證產品質量和實驗結果的準確性至關重要;主要利用質量流量傳感器來測量氣體的質量流量,通過熱式原件和質量流量調節閥控制各自氣體的流量,從而實現對不同氣體流量效應的精密調控。液體配比則多采用體積或質量計量的方式,通過控制不同液體的比例實現混合;技術特性主要體現在其能夠為激光切割、焊接等提供大流量的二元氣體混合,且能確保混合氣體的均勻性。...

  • 20246-29
    新品發布!1000度真空高溫熱臺

    鄭州科探儀器設新品發布!1000度真空高溫熱臺。本電爐為桌面式高溫加熱臺。用于少量樣品功能陶瓷、光學材料、碳復合材料、硬質合金、粉末冶金,在高溫條件下進行燒結處理,也可用于對樣品高溫真空環境的電信號測試。主要技術要求1:額定功率:≤1.2KW2:額定溫度:1150℃,長期使用溫度≤1000℃(鎢絲加熱需在小于10Pa的真空環境下加熱)3:有效熱臺尺寸:55x55mm(臺面加熱)4:真空觀察窗口:Φ70mm5:加熱臺材質:氧化鋁6:加熱器:碳化硅7:測溫方式:S型熱電偶...

  • 20246-11
    真空加熱臺內部壓強可達到10的-5次方

    真空加熱臺是一種高精度的加熱設備,廣泛應用于實驗室、半導體制造、光學器件制造等領域。它的主要功能是在高真空環境下對樣品進行加熱、退火、熱處理等操作,以控制樣品的結構。配備有高級別的真空腔體,其內部壓強可達到10的-5次方,確保了加熱過程在較高的真空度下進行,能有效避免樣品在加熱過程中受到外界氣體的污染。真空加熱臺的維護保養方法:-確保加熱臺周圍通風良好,避免有害氣體積聚,這有助于防止火災風險并保護使用者的健康。-加熱臺應放置在穩固的工作臺面上,避免晃動或滑動造成事故。-盡量將...

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